| 時 間 |
テーマ |
| 13：30
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開場 |
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14：00
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開会 |
| 主催者挨拶（ASET 稲垣専務理事） |
共催者挨拶（NEDO 電子・情報技術開発部 富田部長殿） |
| 14：10
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プロジェクト・リーダ基調講演（東京大学 石原直教授殿） |
| 14：30
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マスク設計・描画・検査総合最適化技術開発概要報告（マスクD2I技術研究部 山部部長） |
| 14：40
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マスク設計データ処理技術開発報告（マスク設計データ処理技術研究室 井上室長） |
| 15：25
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共同研究報告（株式会社 半導体理工学研究センター 執行役員・企画部長 鬼頭殿） |
15：55 |
休憩 |
| 16：15
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マスク描画装置技術開発報告（マスク描画装置技術研究室 安田室長） |
| 17：00
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共同研究報告（名城大学 学長 下山教授殿） |
| 17：25
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マスク検査装置技術開発報告（マスク検査装置技術研究室 小川室長） |
| 18：10 |
来賓ご挨拶（経済産業省 商務情報政策局 情報通信機器課 藤原殿） |
| 18：15 |
閉会 |
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| 18：30 |
懇親会開会（2階 201会議室） |
