ASET技術研究組合 超先端電子技術開発機構
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マスクD2I技術研究部 第2回 成果報告会

主 催
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 (ASET)
共 催
独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 (NEDO)
日 時
2008年4月11日(金) 14:00〜18:25(報告会)、18:30〜(懇親会)
場 所
総評会館 2階 大会議室
東京メトロ千代田線 新御茶ノ水駅 B3出口 徒歩0分
東京メトロ丸ノ内線 淡路町駅 B3出口 * (B3出口まで徒歩5分)
都営地下鉄新宿線 小川町駅 B3出口 * (B3出口まで徒歩5分)
* B3a出口は、違う方向へ出ますのでご注意ください。
JR中央線・総武線 御茶ノ水駅 聖橋口 徒歩5分
申 込 方 法
本報告会は入場無料ですが、登録制とさせていただきます。
お手数ですが、参加希望の方は、下記のお問い合わせ先に、以下の内容を電子メールにてお送り下さい。
1. お名前:
2. ふりがな:
3. ご所属団体名:
4. ご所属部署名:
5. 役職:
6. ご連絡先所在地:
7. ご連絡先電話番号:
8. ご連絡先E-mailアドレス:
9. 報告会にご(出席・欠席) [どちらかを消して下さい]
10. 懇親会にご(出席・欠席) [どちらかを消して下さい]
申込み締切は3月28日です。なお、会場定員に達したときには、締切前に申込み受付を中止する場合がありますのでご了承下さい。
お問い合わせ
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 (ASET)
〒104-0033 東京都中央区新川1-28-38東京ダイヤビル1号館8階
TEL: 03-3552-4811
FAX: 03-3552-4812
担当:マスクD2I技術研究部 山部・斉藤かおり

プ ロ グ ラ ム (予定)          
時 間
テーマ
13:30
開場
14:00
開会
挨拶
招待講演 (Micheal Lercel 氏、Director, Lithography, SEMATECH)
イントロダクション (プロジェクト・リーダ: 東大大学院 石原直教授)
マスクD2I技術開発概要報告
マスク設計データ処理技術開発報告
マスク描画装置技術開発報告
共同研究報告 (名城大学)
マスク検査装置技術開発報告
18:25
閉会
18:30
懇親会開会(2階 201会議室)
プログラム詳細は、今後、アップデートしていきます