理事長よりのご挨拶
理事長よりのご挨拶
役員構成
役員構成
組織図
組織図
組合員
組合員
2011年度事業報告(PDF)1.88MB
2011年度事業報告(PDF)1.88MB
2010年度事業報告(PDF)1.79MB
2010年度事業報告(PDF)1.79MB
CP.D2Iフォーマット仕様書(PDF)195KB
CP.D2Iフォーマット仕様書(PDF)195KB
MDRフォーマット仕様書(PDF)232KB
MDRフォーマット仕様書(PDF)232KB
超先端電子技術開発 半導体技術
超先端電子技術開発 半導体技術
超先端電子技術開発 磁気記録技術
超先端電子技術開発 磁気記録技術
超先端電子技術開発 反射型液晶技術
超先端電子技術開発 反射型液晶技術
PFC代替プロセス技術
PFC代替プロセス技術
半導体製造装置基盤技術
半導体製造装置基盤技術
高効率次世代半導体製造システム技術開発
高効率次世代半導体製造システム技術開発
超高密度電子SI技術
超高密度電子SI技術
EUVリソグラフィプロセス技術
EUVリソグラフィプロセス技術
MIRAIプロジェクト
MIRAIプロジェクト
マスクD2Iプロジェクト
マスクD2Iプロジェクト
セキュア・プラットフォームプロジェクト
セキュア・プラットフォームプロジェクト
次世代情報家電ソフトウェア・プラットフォームプロジェクト
次世代情報家電ソフトウェア・プラットフォームプロジェクト
その1(PDF)4.46MB
その1(PDF)4.46MB
その2(PDF)3.47MB
その2(PDF)3.47MB
その3(PDF)2.12MB
その3(PDF)2.12MB
研究開発プロジェクト
研究開発プロジェクト
研究開発推移
研究開発推移
研究開発が終了したプロジェクト
研究開発が終了したプロジェクト
完了プロジェクトの研究成果
完了プロジェクトの研究成果
研究成果の受賞
研究成果の受賞
研究成果実用化の例
研究成果実用化の例
研究開発実施体制
研究開発実施体制
事業費推移
事業費推移
組合員分担
組合員分担
ビジョン研究会報告書(PDF)1.57MB
ビジョン研究会報告書(PDF)1.57MB
研究成果(ビジョン研究会パンフレット)
研究成果(ビジョン研究会パンフレット)
研究成果(「ドリームチッププロジェクト研究成果報告会」資料
研究成果(「ドリームチッププロジェクト研究成果報告会」資料
経済産業省
経済産業省
産業技術総合研究所
産業技術総合研究所
新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)
新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)
研究開発パートナーシップ~新「技術研究組合制度」~
研究開発パートナーシップ~新「技術研究組合制度」~
超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)
超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP)
本部
本部
研究センター
研究センター
セキュア・プラットフォームの実証実験に成功
セキュア・プラットフォームの実証実験に成功
仮想サーバ環境での安心・安全な業務システム構築・運用の実証実験を実施
仮想サーバ環境での安心・安全な業務システム構築・運用の実証実験を実施
|
倫理規範
|
>>バックナンバーTOPへ戻る
マスクD2I技術研究部 第3回 成果報告会
主 催
技術研究組合 超先端電子技術開発機構(ASET)
共 催
独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)
日 時
2009年4月6日(月) 13:30 [予定]~17:35(報告会)、17:45~(懇親会)
場 所
日本科学未来館 7階 みらいCANホール
URL: http://www.miraikan.jst.go.jp/
新交通ゆりかもめ (新橋駅~豊洲駅)
「船の科学館駅」下車、徒歩約5分
「テレコムセンター駅」下車、徒歩約4分
申 込 方 法
本報告会は入場無料ですが、登録制とさせていただきます。
お手数ですが、参加希望の方は、下記のお問い合わせ先に、以下の内容を電子メールにてお送り下さい。
1. お名前:
2. ふりがな:
3. ご所属団体名:
4. ご所属部署名:
5. 役職:
6. ご連絡先所在地:
7. ご連絡先電話番号:
8. ご連絡先E-mailアドレス:
9. 報告会にご(出席・欠席) [どちらかを消して下さい]
10. 懇親会にご(出席・欠席) [どちらかを消して下さい]
申込み締切は3月23日です。なお、会場定員に達したときには、締切前に申込み受付を中止する場合がありますのでご了承下さい。
お問い合わせ
技術研究組合 超先端電子技術開発機構(ASET)
〒104-0033 東京都中央区新川1-28-38東京ダイヤビル1号館8階
TEL: 03-3552-4816(直通)、03-3552-4811(代表)
FAX: 03-3552-4812
担当:マスクD2I技術研究部 山部・斉藤かおり
E-mail
:maskd2i_09@aset.tokyoinfo.or.jp
プ ロ グ ラ ム (予定)
13:00
開場
13:30
開会
挨拶
招待講演-1
"CRYSTAL project, a contribution to IC Cycle Time excursion control"
Mr. Eric Beisser, Leader of MEDEA+ CRYSTAL Project Work Package WP1 [Mask DFM] and CEO of XYALIS
プロジェクト・リーダ基調講演
マスクD2I技術開発概要報告
マスク設計データ処理技術開発報告
招待講演-2
「SeleteでのEUVマスク技術開発状況」
須賀 治 氏
株式会社 半導体先端テクノロジーズ 第三研究部
次世代マスクプロジェクト EUVマスクプログラム
プログラムマネージャ
マスク検査装置技術開発報告
マスク描画装置技術開発報告
17:35
閉会
17:45
懇親会開会(7階 レストラン バサラ)
プログラム詳細は、今後、アップデートしていきます。
ページの上へ戻る