ASET技術研究組合　超先端電子技術開発機構
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マスクD2I技術研究部 第3回 成果報告会

主　催
技術研究組合 超先端電子技術開発機構（ASET）
共　催
独立行政法人　新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）
日　時
2009年4月6日（月） 13:30 [予定]〜17:35（報告会）、17:45〜（懇親会）
場　所
日本科学未来館 7階 みらいCANホール
新交通ゆりかもめ (新橋駅〜豊洲駅)
「船の科学館駅」下車、徒歩約5分
「テレコムセンター駅」下車、徒歩約4分
申　込　方　法
本報告会は入場無料ですが、登録制とさせていただきます。
お手数ですが、参加希望の方は、下記のお問い合わせ先に、以下の内容を電子メールにてお送り下さい。
1. お名前：
2. ふりがな：
3. ご所属団体名：
4. ご所属部署名：
5. 役職：
6. ご連絡先所在地：
7. ご連絡先電話番号：
8. ご連絡先E-mailアドレス：
9. 報告会にご(出席・欠席) [どちらかを消して下さい]
10. 懇親会にご(出席・欠席) [どちらかを消して下さい]
申込み締切は3月23日です。なお、会場定員に達したときには、締切前に申込み受付を中止する場合がありますのでご了承下さい。
お問い合わせ
技術研究組合　超先端電子技術開発機構（ASET）
〒104-0033　東京都中央区新川1-28-38東京ダイヤビル1号館8階
TEL: 03-3552-4816（直通）、03-3552-4811（代表）
FAX: 03-3552-4812
担当：マスクD2I技術研究部　山部・斉藤かおり
E-mail:maskd2i_09@aset.tokyoinfo.or.jp　

プ　ロ　グ　ラ　ム （予定）　　　　　　　　　　
13：00
開場
13：30
開会
挨拶
招待講演−１
"CRYSTAL project, a contribution to IC Cycle Time excursion control"
Mr. Eric Beisser, Leader of MEDEA+ CRYSTAL Project Work Package WP1 [Mask DFM] and CEO of XYALIS
プロジェクト・リーダ基調講演
マスクD2I技術開発概要報告
マスク設計データ処理技術開発報告
招待講演−２
「SeleteでのEUVマスク技術開発状況」
須賀 治 氏
株式会社 半導体先端テクノロジーズ 第三研究部
次世代マスクプロジェクト EUVマスクプログラム
プログラムマネージャ
マスク検査装置技術開発報告
マスク描画装置技術開発報告
17：35
閉会
17：45
懇親会開会（7階 レストラン　バサラ）
プログラム詳細は、今後、アップデートしていきます。