ASET技術研究組合　超先端電子技術開発機構
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マスクD2I技術研究部 第4回 成果報告会

主　催
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 (ASET)
共　催
独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構 (NEDO)
日　時
2010年4月15日（木）13:20［予定］〜17:25（報告会）、17:35〜（懇親会）
場　所
パシフィコ横浜 アネックスホール 　　　　　　　　　　　　
みなとみらい線　みなとみらい駅下車 徒歩3分
そ　の　他
本報告会は4月13日から15日(午前中)に開催されるPhotomask Japan 2010の後に同会場で開催されます。
申　込　方　法
本報告会は入場無料ですが、登録制とさせていただきます。
お手数ですが、参加希望の方は、下記のお問い合わせ先に、以下の内容を電子メールにてお送り下さい。
1. お名前：
2. ふりがな：
3. ご所属団体名：
4. ご所属部署名：
5. 役職：
6. ご連絡先所在地：
7. ご連絡先電話番号：
8. ご連絡先E-mailアドレス：
9. 報告会にご(出席・欠席) [どちらかを消して下さい]
10. 懇親会にご(出席・欠席) [どちらかを消して下さい]
申込み締切は3月31日です。なお、会場定員に達したときには、締切前に申込み受付を中止する場合がありますのでご了承下さい。
お問い合わせ
技術研究組合 超先端電子技術開発機構 (ASET)
〒104-0033　東京都中央区新川1-28-38東京ダイヤビル1号館8階
TEL: 03-3552-4816（直通）、03-3552-4811（代表）
FAX: 03-3552-4812
担当：マスクD2I技術研究部　山部正樹・斉藤かおり
E-mail:maskd2i_10@aset.tokyoinfo.or.jp　
　　　　　　　　　　
プ　ロ　グ　ラ　ム （予定）　　　　　　　　　　
 
開会
 
挨拶
 
招待講演（大日本印刷株式会社 フェロー　林 直也 氏）
“Photomask：Technology ＆ Business Challenges”
 
ASET−マスクD2Iについて
（プロジェクト・リーダ、東京大学大学院 石原 直 教授）
 
マスクD2I技術開発概要報告（ASET 山部 正樹）
 
Mask Data Rank（MDR）とその応用（ASET 井上 忠雄）
 
繰り返しパターン（CP）抽出とその応用（ASET 庄司 正弘）
 
並列描画システムMCC（Multi Column Cell）（ASET 山田 章夫）
 
マスク描画装置のモニター・自己診断システム（ASET 星 浩利）
 
マスク検査における欠陥転写性検査システム（ASET 高原 憲一）
 
懇親会
プログラム詳細、その他は、今後、アップデートしていきます。