プ ロ グ ラ ム
| 時 間 |
テーマ |
講 演 者 |
| 13：00 |
開場 |
| 13：15～13：20 |
開会 |
ASET
専務理事
稲垣 謙三 |
| 13：20～13：35 |
EUVLを取り巻く情勢の報告 |
ASET
EUVプロセス技術研究部長
岡崎 信次 |
| 13：35～14：00 |
EUVL技術開発の取組み |
キヤノン㈱
キヤノン製品技術研究所
上席担当部長
鵜沢 繁行様 |
| 14：00～14：25 |
ニコンにおけるEUV露光装置開発 |
㈱ニコン精機カンパニー
開発本部第２開発部 GM
三浦 孝治様 |
| 14：25～14：50 |
EUVAにおけるEUV光源及び装置技術の開発状況 |
EUVA
研究企画部長兼研究部長
阿部 直道様 |
| 14：50～15：05 |
休憩
|
| 15：05～15：25 |
旭硝子におけるEUVブランク開発状況 |
旭硝子㈱
中央研究所主席研究員
生田 順亮様 |
| 15：25～15：45 |
EUVマスクプロセス開発の現状 |
大日本印刷㈱
電子デバイス事業部
電子デバイス研究所
第１研究室 １グループ
エキスパート
安部 司様 |
| 15：45～16：05 |
Seleteのマスクプログラム |
Selete
第３研究部EUマスクプログラム
プログラムマネージャー
須賀 治 |
| 16：05～16：25 |
低分子材料を用いたEUVレジストの開発状況 |
東京応化工業㈱
開発本部 先端材料開発１部 課長
羽田 英夫様 |
| 16：25～16：50 |
EUVプロセス及びその他の技術開発状況 |
ASET
EUVプロセス技術研究室長
西山 岩男 |
| 16：50～17：00 |
閉会 |
Selete
取締役 第三研究部長
森 一朗 |
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