ASET技術研究組合　超先端電子技術開発機構
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超先端電子技術開発

電子ビーム直接描画システム技術（平成7〜10年度）
 
描画速度の高速化と微細化・高精度化の両立を目指し、シングルコラム及びツインコラム方式の装置を開発

超高精度遮光システム技術（平成7〜10年度）
 
超高精度マスク描画用制御系及びコラム系の高精度化のため電子ビーム露光システム2種類を開発

電子ビームリソグラフィ技術（平成11〜13年度）
 
上記2テーマを発展させ、マスク描画速度高速化、微細化技術を開発

X線等倍露光技術（平成7〜12年度）
 
大焦点深度・大露光フィールドX線等倍露光技術、露光プロセスを開発

EUV露光技術（平成10〜13年度）
 
X線縮小投影(EUV)露光技術用多層膜マスク製造、レジスト材料プロセス、非球面光学系評価、及び露光波長での光学系、マスク評価に関する技術を研究開発

ArFレーザー露光技術（平成7〜9年度）
 
ArFレーザー露光技術を用いた150nm以下の微細パターンプロセスにおける、単層レジスト、超解像技術、表層イメージングプロセス技術等を開発

超先端プラズマ反応計測・分析・制御技術（平成7〜12年度）
 
最先端プロセス用プラズマ源・評価、総合的気相診断技術、表面反応、シミュレーション・モデリング技術基礎を確立

超微細粒子制御クリーニング技術（平成7〜12年度）
 
二流体ジェット、機能水併用した微粒子除去技術、光を利用した微粒子検出技術を開発、微粒子除去モデルと界面構造モデルを構築

超高感度媒体技術（平成7〜12年度）
 
超高感度磁気記録媒体の材料設計、微細制御成膜プロセス技術及び高精細磁化機構解析技術を研究開発

新機能素子・成膜技術（平成7〜12年度）
 
高感度磁気ヘッド素子化技術、薄膜巨大磁気抵抗効果材料及び薄膜トンネル接合素子を研究開発

新機能電子材料設計・制御・分析技術（平成7〜12年度）
 
超低消費電力、フルカラー反射型液晶表示デバイスを目指し、高機能電子材科の探索、新機能現象の解明、基盤デバイス要素技術を研究開発

次世代液晶プロセス基盤技術の先導研究（平成11〜12年度）
 
大面積の液晶パネルに適した製造プロセス技術の開発に関するフィージビリティスタディ

高効率半導体製造プロセス基盤技術（平成11年度）
 
大口径高密度プラズマ技術、高効率露光技術（レーザー、マスク）とプロセス高速化、省エネ化技術を研究開発

LSI回路シミュレーション技術（平成12年度）
 
高速・多ピンLSI検査用プローブカード、超高速・高精度熱処理技術を開発

F2レーザーリソグラフィ技術（平成11〜16年度）
 
F2レーザ真空紫外領域（VUV）光源の超狭帯域化、光学系のパワー損失低減及びガスパージ・ケミカルクリーンに関する技術の研究開発（平成14〜16年度は自主）

HALCAプロジェクト（平成13〜15年度）
 
60％の省エネルギーを達成する半導体製造技術、新しい段階投資型構造ラインシステムの開発

高効率半導体装置技術（平成16〜19年度）
 
HALCAプロジェクトの継続研究として、ステンシルマスクイオン注入技術、300mmFTPプロセス技術を開発

PFC代替プロセス技術（平成11〜15年度）
 
地球温暖化効果の高いPFCガス（エッチング等に使用）使用量削減、PFCを使用しないプロセス、デバイス構造を研究開発

超高密度電子SI技術（平成11〜15年度）
 
半導体や電子部品の三次元実装技術、光電気複合実装技術及び最適配線構造設計に関する研究開発

光実装部品標準化プロジェクト（平成16〜17年度）
 
超高密度電子SI技術プロジェクトで開発したボード間接続用光コネクタ及びLSI間接続用のアクティブインタポーザ等光実装部品の信頼性データ収集、国際標準化を目指し開発

MIRAIプロジェクト（平成13〜19年度）
 
第1、2期（平成13〜17年度）：45nm技術世代の技術、高誘電率ゲートスタック技術、低誘電率層間絶縁膜材料、新構造トランジスタ技術、リソグラフィ関連計測技術、新回路構成技術を開発
第3期（平成18〜19年度）：32nm技術世代以降の極限CMOS（U-CMOS）トランジスタ基盤技術を研究開発

ウエーハ・マスクパターン検査計測技術（平成18〜19年度）
 
MIRAIプロジェクトで開発した短波長光による半導体表面の欠陥確認技術及びCD-AFMによるパターン計測技術の実用化に向けた研究開発 （MIRAIから継続研究）

EUV絶対波面計測技術（平成13〜14年度）
 
EUV露光システムに使用される光学系の校正に必要な計測技術及び計測装置を研究開発 （平成15年度EUVAに移管）

EUVマスク・レジストプロセス技術（平成14〜18年度）
 
実用的なEUV露光システムに必要な多層膜マスク及びレジストプロセス技術を研究開発

EUVリソグラフィ用レジスト評価（平成17〜18年度）
 
小フィールドEUV露光装置HiNA-3によるEUV用レジストの感度・解像度・LER等の評価、検討

45nm hpシステムLSI用設計・描画・検査最適化技術への先導研究（平成17年度）
 
45nm以降複数の技術世代にわたってシステムLSIマスクコストを安定化させる、マスク設計、描画、検査の最適化技術のフィージビリティスタディ

マスク設計・描画・検査総合最適化技術（平成18年度〜21年度）
 
マスク設計・描画・検査の総合最適化技術を開発するための（1）マスクデータ処理技術の研究開発、（2）マスク描画装置技術の調査開発、（3）マスク検査装置技術の研究開発

セキュア・プラットフォームプロジェクト（平成19年度〜21年度)
 
高い安定性と安全性を持つ仮想サーバ技術と統合アクセス制御技術から構成される次世代情報システムプラットフォームの研究開発

次世代情報家電ソフトウェア・プラットフォームプロジェクト（平成20年度〜22年度)
 
次世代の情報家電におけるソフトウェア・プラットフォームを確立するためのマルチメディアインターフェースの開発及びハードウェア仮想化インターフェースの開発。