ASET技術研究組合　超先端電子技術開発機構
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完了プロジェクトの研究成果
  
 
　●マスクD2Iプロジェクト　（平成18年度〜21年度）
  
 
 
 
「マスク設計・描画・検査総合最適化技術開発」
マスク設計データ処理、マスク描画、マスク検査の三工程を通した総合最適化による、マスク製造の低コスト化、短TAT化のための基盤技術確立
市販EDAツールからの設計インテント（DIF）抽出とマスクデータランク（MDR）変換
繰返しパターンの抽出とCP描画
MCC-CP POCシステムの構築
マスク検査における欠陥転写性検査機能
マスク製造TAT短縮効果