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倫理規範
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● 半導体製造装置基盤技術(平成11年〜16年度)
次世代製造技術に向けた先進的プラズマ技術、レーザ光源、プロセス高速化、省エネルギ技術を開発、成果の一部は既に商品化されている。
RLSA方式プラズマプロセス技術
光電子・光触媒法による局所クリーン化技術
高密度、均一プラズマにより高耐圧ゲート絶縁膜を実現
微粒子、有機物質汚染を除去する局所クリーン化技術
BED方式プラズマ技術
高密度・高速半導体検査用プローブカード技術
ばらつきを抑制し、均一性を向上した
エッチング装置技術を開発
アモルファス合金、マイクロマシン技術による
高速・多ピンプローブピン技術
F2レーザーリソグラフィ技術開発プロジェクト
繰返し6KHz、60W、スペクトル幅0.2μmの光源を開発
実証投影光学系で照度均一性 ±0,2%を実証
吸収率・散乱率評価装置を開発し、薄膜での損失0.3%以下を達成
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RLSA方式プラズマプロセス技術
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