ASET技術研究組合　超先端電子技術開発機構
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完了プロジェクトの研究成果
  
 
　● EUVリソグラフィプロセス技術(平成10年〜18年度)
  
 
 
 
●EUVリソグラフィ技術(平成10年〜13年度)
EUVリソグラフィ技術
●EUVリソグラフィプロセス技術(自主・NEDO事業 平成14年〜18年度)
分子レジストにより解像性28nm実証
分子レジストにより解像性28nm実証
高分子系化学増幅型
レジストにより28nm解像
長周期LER評価（3σ 3.4nm)
高分子系化学増幅型レジストにより28nm解像 長周期LER評価（3σ 3.4nm)
マスクパターン転写性評価
マスクパターン転写性評価
マスク基板の計測とパターン転写性評価
ミラークリーニング技術
原子状水素によるRu表面酸化膜除去の実証
マスク基板の計測とパターン転写性評価 ミラークリーニング技術原子状水素によるRu表面酸化膜除去の実証
EUVリソグラフィ用小フィールド露光実験機HiNAとTaN系吸収剤を用いたマスク
EUVリソグラフィ用小フィールド露光実験機HiNAとTaN系吸収剤を用いたマスク